自動(dòng)勻膠顯影機是一種用于半導體制造、微電子、納米技術(shù)和光電器件等領(lǐng)域的關(guān)鍵設備。它主要用于在襯底上均勻涂覆光刻膠,并通過(guò)顯影過(guò)程將光刻圖案轉移到襯底上。勻膠和顯影過(guò)程的實(shí)現主要依賴(lài)于以下幾個(gè)步驟:
1、襯底加載:首先將待處理的襯底放入
自動(dòng)勻膠顯影機的載片臺上。載片臺通常具有真空吸附功能,以確保襯底在處理過(guò)程中保持穩定。
2、勻膠過(guò)程:勻膠過(guò)程主要包括滴膠、旋轉涂布和溶劑蒸發(fā)三個(gè)階段。
a)滴膠:在襯底中心滴上一定量的光刻膠。光刻膠的粘度、表面張力和滴膠量等參數需要根據襯底尺寸和所需膠層厚度進(jìn)行精確控制。
b)旋轉涂布:?jiǎn)?dòng)載片臺旋轉,通過(guò)離心力將光刻膠均勻分布在襯底表面。旋轉速度和時(shí)間需要根據光刻膠的性能和所需膠層厚度進(jìn)行調整。
c)溶劑蒸發(fā):在旋轉涂布過(guò)程中,部分溶劑會(huì )逐漸蒸發(fā),使光刻膠變得更加粘稠。通過(guò)控制環(huán)境的濕度和溫度,可以調整溶劑蒸發(fā)速率,從而獲得理想的膠層厚度和均勻性。
3、前烘過(guò)程:勻膠完成后,需要對襯底進(jìn)行預熱處理,以進(jìn)一步去除光刻膠中的溶劑,提高膠層的附著(zhù)力和穩定性。前烘過(guò)程通常在熱板上進(jìn)行,溫度和時(shí)間需要根據光刻膠的性能進(jìn)行調整。
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4、曝光過(guò)程:將前烘后的襯底送入光刻機進(jìn)行曝光。光刻機通過(guò)投影系統將掩模圖案照射到襯底上的光刻膠層,使曝光區域的光刻膠發(fā)生光化學(xué)反應。
5、顯影過(guò)程:曝光完成后,將襯底重新放回自動(dòng)勻膠顯影機的顯影模塊。顯影過(guò)程主要包括以下步驟:
a)噴涂顯影液:將顯影液均勻噴灑在襯底表面,使曝光區域的光刻膠溶解。
b)浸泡顯影:將襯底浸入顯影液中,通過(guò)控制浸泡時(shí)間和顯影液的濃度、溫度等參數,可以實(shí)現不同對比度和分辨率的圖案顯影。
c)沖洗和干燥:用去離子水沖洗掉顯影液和溶解的光刻膠,然后通過(guò)旋轉或吹氣的方式將襯底表面的水分去除,得到清晰的光刻圖案。
通過(guò)以上步驟,自動(dòng)勻膠顯影機實(shí)現了襯底上光刻膠的均勻涂布和圖案的精確顯影,為后續的刻蝕、離子注入等工藝奠定了基礎。